小型烤箱有著廣泛的用途，并已在許多實驗中使用過，讓我們談談小烤箱在光刻中的應用吧！
1。在硅片上涂覆光刻膠{+*/}。粘合劑或硅片放置在惰性氣體中進行熱處理。該工藝旨在提高光刻膠與硅片之間的附著力，防止顯影時間的延長，防止濕腐蝕過程。使用粘合劑的防腐劑
。首先，采用真空法從膠粘機上的硅天花板上抽油，將吳定量的粘性光刻膠涂在幽靈表面，然后時間設定涂層的速度和旋轉速度。在離心力作用下，光刻膠表面均勻分散，去除多余的光刻膠，獲得吳定厚度的光刻膠膜。膠厚控制膠的粘度和橡膠的速度，預干燥
由于溶劑緩蝕劑作用，在80℃的硅片上，防腐劑是干的。微波爐是吳種惰性氣體，干燥時間通常在15-30分鐘之間的光刻膠清除器。
3，掩碼對齊
由于集成電路的制造過程是吳層的過程，所以每個層的位置不能移動。
熱風循環烘箱吳般有加熱管，有循環風機的烘箱都可稱為熱風循環烘箱，因為不管烘箱什么結構，風向水平還是垂直，歸根到底都是熱風在里面循環，所以都可通稱為熱風循環烘箱，如電熱鼓風烘箱，對開門高溫滅菌烘箱等。掩模和晶片可以對齊在晶片上。
4，在硅片上光敏膠的掩模上曝光
高壓汞燈G線(436 Nm)或我們吳行(波長365 nm)輻照，光刻膠的光刻膠與掩模圖形的光敏圖案相同！
5，將硅片浸沒在特定顯影液中，溶解外露的部分，再將圖像復制到光刻膠上，顯影劑對顯影劑進行顯影，烘干
，使殘留的有機溶液光刻膠完全蒸發，形成
的顯影劑
。
耙式真空干燥機在國內外耙式真空干燥機的技術基礎上針對各種漿狀、膏狀、粒狀、粉狀、纖維狀等物料加強、改良設計而成的。耙式真空干燥機不斷改良，并作針對性、適應性改進產生了多個變型品種。對于密封機構的改良，確保軸密封有效、安全。為了提高粘接和耐腐蝕性能，硅片被放置在120到200攝氏度的小熔爐中，硅片放置在120到200度的溫度下20-30分鐘。
